삼성·SK하이닉스 — 중국 HBM 추격, 무서운 건 '속도'다

CXMT 12단 적층 HBM 2027년 양산 목표, 한국과 격차 '3년 이내'로 좁혀

Share
삼성·SK하이닉스 — 중국 HBM 추격, 무서운 건 '속도'다
CXMT 12단 적층 HBM 2027년 양산 목표, 한국과 격차 '3년 이내'로 좁혀

성균관대 권석준 교수가 최근 Understanding 채널 인터뷰에서 던진 경고는 단순합니다. "지금 몇 발 앞섰는지보다, 따라오는 속도가 더 무섭다." 삼성전자(005930)·SK하이닉스(000660)를 들고 있다면 한 번쯤 멈추고 봐야 할 흐름입니다.

📌 3줄 요약 (제일 쉽게)

  • 중국 CXMT(창신메모리)가 HBM(AI 반도체에 들어가는 핵심 고급 메모리) 12단 적층을 2027년 양산 목표로 잡았고, 한국과 격차가 '3년 이내'까지 좁혀졌다는 평가가 나왔습니다.
  • 진짜 위험은 '지금 격차'가 아니라 '따라오는 기울기'. 중국은 배터리·태양광에서 똑같은 수법(저가 → 데이터 누적 → 급속 추월)으로 이미 한국을 추월했습니다.
  • 한국 반도체가 슈퍼사이클로 돈 잘 벌리는 지금이, 차세대 패키징·후공정에 재투자할 골든타임이라는 진단입니다.

⚡ 중국이 얼마나 따라왔나 — 1년 단위로 다르다

2~3년 전만 해도 중국 메모리는 "장비도 없고 특허도 없어서 못 따라온다"는 평가가 정설이었습니다. 2026년 상반기 그림은 바뀌었습니다.

  • CXMT 글로벌 D램 점유율 4% → 8% (1분기 기준, 두 배 점프). 연말 목표가 분기 만에 끝났습니다.
  • HBM3 샘플 공급 시작 — 화웨이 등 중국 AI 칩 회사에 공급 중. 양산은 2026년 말 목표.
  • 12단 적층 HBM 2027년 양산 로드맵 — 한국과 격차 '3년 이내' 평가가 등장.
  • 중국 정부 '국가집적회로산업투자기금 3기' 약 70조원(한국 1년 국방예산 규모) 집행.
다만 HBM은 D램만 잘 만든다고 끝이 아닙니다. TSV(웨이퍼에 미세 구멍 뚫는 기술)·발열 제어·고객 인증 경험까지 필요한 종합 게임이라, 실질 격차는 여전히 적지 않다는 게 업계 평가입니다.